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我国真空电镀研究及发展历程

hsdd — Sat, 21 Sep 2013 06:37:22 +0000

我国早在1980年陈宝清教授等人就开展“离子镀替代电镀技术研究及专用设备的研制”,在此主要完成钢铁件离子镀铝代替电镀锌及电镀镉；离子镀钛，离子镀铬代替电镀镍，电镀铬的研究工作。1990-1994年主要完成黄铜件离子镀不锈钢替代电镀钯—镍合金→离子镀氮化钛及锌基合金表面电镀镍（或电镀铬）→离子镀氮化钛的研究工作。1995年到现在完成黄铜件、铝合金、锌基合金的离子镀中间层合金替代电镀镍→离子镀铬及离子镀中间层合金替代电镀镍→离子镀氮化钛（或锆）→离子镀金→离子镀透明陶瓷保护膜的研究工作。
离子镀膜与电镀膜相比较，主要有以下几大优点:
1.离子镀膜致密，耐蚀性好，
2.镀膜中不含镍或镉元素，对人体无害，更不引起癌变。
3.镀膜附着性好，而电镀膜与基材之间是没有过渡层的。
4.离子镀膜过程均在真空条件下进行，无三废排放，不污染环境，更不需三废治理和投资。

真空电镀厂镀钯常见问题及解决方法

hsdd — Wed, 18 Sep 2013 09:49:29 +0000

一、镀层发暗发黑
1.是主盐含量少，须添加添加主盐
2.氯化氨过高，须加主盐或升温
二、镀层发脆，结合力不良
1.阴极电流密度过大，须降低电流密度
2.铜杂质多,须回收钯，更新镀液
三、镀层粗糙不亮
1.温度过高，须降低温度
2.阴极电流密度过大,须降低电流密度
3.主盐含量高,须稀释镀液调整其它成份

真空电镀设备维修与保养

hsdd — Sat, 14 Sep 2013 13:50:26 +0000

真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次,需用用烧碱（NaOH）饱和溶液反复擦洗真空室内壁，目的是使镀上去的膜料铝（AL）与NaOH发生反应，再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。当粗抽泵连续工作一个月，需更换新油。方法是：拧开放油螺栓，放掉旧油，再将泵启动数秒，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量,连续使用半年以上，换油时应将油盖打开，用布擦干净箱内污垢。

电镀镍配方

hsdd — Tue, 10 Sep 2013 12:38:19 +0000

洗净备用槽，加入2/3体积纯水。加入所需量的硫酸镍和氯化钠，加热搅拌至完全溶解。用热水单独将硼酸溶解好后加入备用槽，充分搅匀。加入2ml/L双氧水，继续搅拌加热至70℃。在搅拌条件下，用氢氧化钠（10%溶液）调pH至4.5-5.0。加入2g/L粉末活性碳，搅拌2小时，静止8小时或过夜。将溶液过滤至镀槽中，加纯水至接近最终体积。将溶液加温至55℃，用瓦楞板作阴极以0.2～0.5A/dm2电流密度电解至瓦楞阴极凹处无暗灰色为止加入所需量的添加剂，搅匀。加纯水至最终体积，调pH至工艺范围，试镀。

塑料电镀优点

hsdd — Sun, 08 Sep 2013 10:30:14 +0000

塑料电镀制品可以实现很好的金属质感,而且能减轻制品重量,在改善塑料外观及装饰性的同时,也改善了其在电、热及耐蚀等方面的性能，提高了其表面机械强度。对于电镀用塑料材料的选择,要综合考虑材料的加工性能、机电镀成本、电镀的难易程度以及尺寸精度等因素。ABS塑料因其结构上的优势,目前在电镀中应用极为普遍。

废水处理方法

hsdd — Tue, 03 Sep 2013 08:33:59 +0000

电镀废水处理方法常见有：1.CZB矿物法处理电镀废水,2.化学沉降沸石吸附法处理高浓度电镀含锌废水,3.氧化还原处理，分为化学还原法、铁氧体法和电解法。4.吸附法,5.离子交换法,6.化学沉淀法，又分为中和沉淀法和硫化物沉淀法,7.溶剂萃取分离法,8.生物处理技术，包括生物絮凝法、生物吸附法、生物化学法、植物修复法。9.膜分离技术

电解电镀原理

hsdd — Tue, 27 Aug 2013 11:33:43 +0000

电镀原理：我们把镀上去的金属接在阳极，或者把待镀金属的可溶性盐添加在槽液中,要被电镀的物件接在阴极,阴阳极以镀上去的金属的正离子组成的电解质溶液相连,通以直流电的电源后，阳极的金属会释放电子，溶液中的正离子则在阴极还原（得到电子）成原子并积聚在阴极表层。

真空镀膜过程

hsdd — Tue, 20 Aug 2013 11:08:24 +0000

我们把需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜

真空电镀特点

hsdd — Fri, 09 Aug 2013 10:30:12 +0000

1> 真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复制出啤件表面的形状

2> 工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵﹒

3> 蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低﹒

4> 只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰﹒

5> 对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷﹒

6> 真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等

真空电镀工艺

hsdd — Thu, 08 Aug 2013 10:15:26 +0000

真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。

加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。

在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。

置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。

镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。

真空电镀概述

hsdd — Wed, 07 Aug 2013 12:41:28 +0000

真空电镀主要包括:真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。常见的塑胶产品电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀真空离子镀，又称真空镀膜真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高．而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，现在为各行业广泛采用．

真空电镀的做法: 一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分．另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况．喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现

真空电镀原理

hsdd — Tue, 06 Aug 2013 15:19:47 +0000

在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属（如铝）在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面，形成镀层。氩气为保护性气体，防止氧化反应影响镀层质量。一般而言，镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 -4 Torr程度进行(1 Torr = 1 公厘水银柱高的压力，大气压为760 Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~ 0.2 微米。

如果镀膜在特定厚度以下时（即太薄），面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化（如表面雾化等）。如镀膜过厚时，会产生白化的状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分Drl[1]v#W？n8D[1]G.e 关于镀膜的形成，首先利用强大电流将镀膜源 (钨丝) 加热，然后把挂在钨丝上的铝片或铝线熔解。铝材从而蒸发、飞散到各方面并附着于被镀件上。熔解的铝为铝原子，以不定形或液体状态存在并附着于被镀件上，经冷却结晶后从而变为铝薄膜。

因此设定钨丝为定数时，由真空度至蒸发铝的飞散方向、钨丝的温度，钨丝到被镀件的距离等；依其镀膜条件，镀膜的性能也除着改变而发生变化。一如前述，镀膜在10 –4 Torr左右下进行，如真空度过低时，其蒸发中的铝遇到残留的气体或者碰着钨丝被加热时产生的气体，发生冲突而冷却，形成的铝粒(非常小的铝粒子集合体) 会附着于被镀膜件上。此时所形成的镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽，也会大大降低镀膜与底油的密着性。如真空度高，而且钨丝的温度亦高时，蒸发铝的运动能量也因此会提高，被镀膜件表面所附着的会是纯铝 (并没有残留气体)，而且密度非常高，镀膜性能因此而得到提升 (包括密着性等)